去膠清洗設(shè)備中國電科45所<自動去膠清洗設(shè)備，中國電子科技集團公司第四十五研究所生產(chǎn)，廣泛應(yīng)用于濕法去除光刻膠的工藝。    去膠清洗設(shè)備中國電科45所

全自動單晶制絨清洗機中國電科45所<單晶硅太陽能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點：獨特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計，分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運營成本，多通道注入結(jié)構(gòu)實現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制，機械

濕法處理設(shè)備中國電科45所<微機電系統(tǒng)（MEMS）是指用微機械加工技術(shù)制作的包括微傳感器、微致動器、微能源等微機械基本部分以及高性能的電子集成電路組成的微機電器件與裝置。四十五所研制的MEMS器

濕法刻蝕設(shè)備中國電科45所自動精密濕法刻蝕設(shè)備，可應(yīng)用于硅片清洗、無圖形薄膜去除（如氮化硅和鈦的去除）、鋁腐蝕、金刻蝕、鎳刻蝕、Si刻蝕、SiO2刻蝕等工藝。    濕法刻蝕設(shè)備中

石英管清洗機中國電科45所四十五所密切跟·蹤太陽能光伏行業(yè)發(fā)展，致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式，現(xiàn)已形成30MW和60MW兩種能規(guī)模的主流生產(chǎn)線的設(shè)備配套能力，批次處理產(chǎn)能為200片，300片，400

太陽能電池清洗機中國電科45所<四十五所密切跟·蹤太陽能光伏行業(yè)發(fā)展，致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式，現(xiàn)已形成30MW和60MW兩種能規(guī)模的主流生產(chǎn)線的設(shè)備配套能力，批次處理產(chǎn)能為200片，30

太陽能光伏制造設(shè)備中國電科45所單晶硅太陽能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點：獨特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計，分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運營成本，多通道注入結(jié)構(gòu)實現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制，機械傳動特殊設(shè)

探針臺中國電科45所探針臺/中測臺是對芯片制程中的電參數(shù)和功能高速高精度測試，以此判斷芯片的優(yōu)劣。主要適用于半導(dǎo)體分立器件、光電器件及集成電路芯片?？蓪崿F(xiàn)手動、自動、全自動測試，適用于生產(chǎn)線、高校及科

碳化硅切割設(shè)備中國電科45所<該設(shè)備主要適用于藍寶石、碳化硅、人工晶體、激光晶體、硬脆金屬等材料的切片加工。具有占地面積小、切料尺寸大、切割速度快、切片精度高、操作簡單方便、運行穩(wěn)定可靠及維護成

旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機中國電科45所<LXS系列立式旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機主要用于材料制備、太陽能電池片、分立器件等行業(yè)中晶片的沖洗干燥工藝。該產(chǎn)品基礎(chǔ)成熟可靠，得到用戶的廣泛認可，具有極高的市場占有率。 &n

勻膠機中國電科45所<涂膠機是將光刻膠均勻的噴霧或者旋涂于晶圓表面，并可進行曝光后的顯影處理。涂膠顯影設(shè)備適用于LED、MEMS、聲表面波、IC集成電路等行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)晶圓手動或者全自動勻膠顯影工藝

勻膠顯影設(shè)備中國電科45所<涂膠機是將光刻膠均勻的噴霧或者旋涂于晶圓表面，并可進行曝光后的顯影處理。勻膠/顯影設(shè)備分為軌道式和星型兩種結(jié)構(gòu)，涂膠顯影設(shè)備適用于LED、MEMS、聲表面波、分立器件

中測臺中國電科45所<探針臺/中測臺是對芯片制程中的電參數(shù)和功能高速高精度測試，以此判斷芯片的優(yōu)劣。主要適用于半導(dǎo)體分立器件、光電器件及集成電路芯片?？蓪崿F(xiàn)手動、自動、全自動測試，適用于生產(chǎn)線、

光刻板清洗機中國電科45所<全自動光刻版（掩膜版）清洗機，用于半導(dǎo)體制造過程中光刻版自動清洗、及干燥工藝。該設(shè)備可有效清`除光刻版在使用過程中表面粘附的殘膠、油污、顆粒等污染，大大改善光刻工藝效

金屬膜剝離清洗機中國電科45所<DFQ-3100型全自動金屬膜剝離機，用于聲表面波（SAW）器件、GaAs微波、毫米波器件、MEMS器件、OLED器件和先進封裝等制造中微細圖形金屬膜剝離工藝，自